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更新時間：2026-05-29 
瀏覽次數：47SUSS MicroTec是半導體與微納加工領域設備廠商，依托多年光刻工藝技術積累，推出LabSpin6臺式旋涂設備。該機型面向實驗室研發、工藝摸索、樣品試制及教學場景打造，主打小型化、易操作與穩定的涂布表現，可滿足光刻膠、聚合物材料等多種薄膜制備需求，廣泛應用于微電子、MEMS、光學材料等相關研究領域。
LabSpin6針對中小型晶圓與各類片狀基板設計，可兼容常規尺寸晶圓及異形碎片基材，搭配多款真空卡盤，能夠穩固夾持不同規格樣品，保障旋涂過程中基材不發生偏移。整機采用緊湊型臺式結構，機身占用空間小，適配潔凈室、實驗室等場地布局。設備腔體采用易清潔材質制作，可拆卸式工藝腔體便于更換試劑、清理殘留物料，減少不同藥劑混用帶來的影響。
設備搭載成熟調速控制系統，轉速調節區間覆蓋常規工藝需求，轉速控制平穩，可實現低速鋪料、高速甩膜的完整工藝流程。系統支持多組工藝配方存儲，操作人員可提前設置轉速、時長、加速度等參數，調用即可重復執行相同工藝，保障實驗數據的一致性。整機運行振動低，運轉噪音小，符合實驗室安靜作業的環境要求。
設備基礎功能齊全，集成基礎涂布與防邊厚處理相關結構，優化基片邊緣成膜效果。機身布局合理，滴液位置可按需調整，適配不同黏度涂料的涂布工藝。同時支持選配自動滴膠、輔助定位等配件，可根據實驗需求逐步升級配置，從基礎手動操作向半自動化作業過渡，適配不同階段的研發使用要求。設備防護結構完整，運行狀態直觀，日常檢查與維護流程簡單。
| 參數項目 | 技術指標 |
| 設備類型 | 臺式實驗室旋涂機 |
| 適配基材 | 常規晶圓、片狀基板、樣品碎片 |
| 控制方式 | 配方存儲、參數可編程 |
| 結構特點 | 體積緊湊、腔體可拆卸易清潔 |
LabSpin6主要用于高校實驗室工藝教學、科研機構材料研發、企業新品工藝驗證等場景，可完成光刻膠涂布、功能聚合物薄膜制備、光學涂層旋涂等工序，是微納加工、半導體研發、柔性電子等領域基礎實驗的常用設備。
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